反应溅射法已在传统基础上发展起来

反应溅射法已在传统基础上发展起来

      真空蒸发法少量样品在真空条件下通过加热或电子束轰击而蒸发成气相， 然后使之在冷却的衬底上冷凝成无定形薄膜。一般而言， 该基础材料的组成、 真空蒸发系统、 基板温度等因素均将影响膜的结构组成。该方法的优点是无污染， 能涂金属、 氧化物等多种材料。

       阴极溅射法。此法利用阴极电子或惰气体原子或离子束轰击近阴极的金属和氧化物靶， 使之溅射到衬底上， 经冷却而成无定形材料。近年来在此方法的基础上又发展了一种反应溅射法， 雷蒙机厂家即溅射后在基板上和氧气进行反应后形成氧化物无定形薄膜，溅射法粒子的能量高于真空蒸发法， 故膜层附着力强且致密， 适用于不易蒸发的材料， 其缺点是效率不够高。

       化学气相沉积法，这种方法利用气态物质在固体表面进行化学反应生成固态沉淀物， 作为一种反应产物凝结在衬底上且仍然保持远程无序的结构状态。当然， 反应接近或就在衬底表面发生， 而不应该在气相下发生。该方法应用的条件为： 反应剂在室温或不太高温度下呈气态或蒸气压较高， 且纯度高; 能形成所需要的沉积层而其他反应产物易挥发; 工艺上重现好， 成本低。